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双面研磨机加工方法:

1.干研磨:研磨时只需在研具表面涂以少量的润滑附加剂。砂粒在研磨过程中基本固定在研具上，它的磨削作用以滑动磨削为主。这种方法生产率不高，但可达到很高的加工精度和较小的表面粗

糙度值(Ra0.02 ~ 0.01μm)。

2.湿研磨:在研磨过程中将研磨剂涂在研具上,用分散的砂粒进行研磨。研磨剂中除砂粒外还有煤油、机油、油酸、硬脂酸等物质。在研磨过程中,部分砂粒存在于研具与工件之间，如图8-12b所

示。此时砂粒以滚动磨削为主,生产率高,表面粗糙度Ra0.04 ~ 0.02μm, -般作粗加工用,但加工表面一般无光泽。

3.软磨粒研磨

在研磨过程中，用氧化铬作磨料的研磨剂涂在研具的工作表面，由于磨料比研具和工件软，因此研磨过程中磨料悬浮于工件与研具之间，主要利用研磨剂与工件表面的化学作用，产生很软的-层

氧化膜，凸点处的薄膜很容易被磨料磨去。

 数控研磨抛光机设备是采用电—气比例阀闭环反馈压力控制，能实现***调控压力装置，主要气动、电器配套件均为进口.设备有五个抛光头，每个抛光头与粘片盘以气轴方式***，开启主机对工件单面抛光时，粘片盘随主盘不断转动，达到单面抛光的目的。设备抛光头能完成上升、下降。操纵面板上安装有主机电位器、抛光头升、降、缓降按钮，以方便操作。采用无级调速系统控制，可轻易调整出适合研磨各种部件的研磨速度，上盘设置缓降功能，有效的防止薄脆工件的破碎;抛光时间设定了时间继电器和压力调节显示表等操纵件，其均位于显示面板上，完成相应操作功能。 抛光过程可设定正、反两种状态。调速方式采用变频调速，调速平稳，低速性能好。


陶瓷制品加工用的抛光机,包括抛光台和夹持台,所述抛光台和夹持台并排设置,所述抛光台上固定设置有抛光电机,所述夹持台上设置有供陶瓷制品放置的支撑板二,通过将抛光台和夹持台进行分体设计,使抛光台上抛光电机通过气缸对电机安装板的驱动作用,使抛光电机的抛光位置及抛光角度能够进行调整,同时通过在夹持台上开设T型槽,使支撑板一带动支撑板二在夹持台上进行移动,实现待抛光陶瓷制品在水平方向上位置的调整,并通过支撑板二经转筒在立柱上进行转动,从而实现支撑板二带动陶瓷制品进行转动,使抛光轮能够对陶瓷制品进行旋转打磨.